高真空镀膜仪High Vacuum Sputter Coater
-
3/人使用者
-
6/次机时次数
-
685/小时总时长
-
0/次送样次数
-
3/人收藏者
-
收费标准
机时400元/小时 -
设备型号
Q150T ES Plus -
当前状态
-
管理员
付刚18116093956,杨磊青 15255151084,周黎笋 -
放置地点
卫光生命科学园1A栋三层308
- 仪器信息
- 预约资源
- 附件下载
- 公告
- 同类仪器
名称
高真空镀膜仪High Vacuum Sputter Coater
资产编号
SA2025070000079
型号
Q150T ES Plus
规格
产地
厂家
所属品牌
Quorum
出产日期
购买日期
所属单位
生物结构解析平台
使用性质
科研
所属分类
电镜相关
资产负责人
付刚18116093956
联系电话
联系邮箱
yangleiqing@smart.org.cn
放置地点
卫光生命科学园1A栋三层308
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
主要规格&技术指标
1.系统应为全自动抽真空和全自动操作的沉积镀膜系统。
2.系统需采用触摸屏操控技术，可储存和调用≥900条镀膜程序；以及≥900个镀膜记录。
3.应具有帮助页和维护提醒功能，程序完成后具有音频声音提示。
4.工作腔室：需使用可方便清洁和维护的圆柱形腔室，可整体拆卸，尺寸不小于 150 mm（内径）x 120mm（高），并配备安全防爆装置以及真空防污染挡板。
5.样品台：台面尺寸≥φ50 mm，可10-20 rpm变速旋转，可0-75°倾斜，且工作距离应在38-70 mm可调。
6.真空系统：系统机械泵＋涡轮分子泵（无需冷却水）；系统真空度3分钟内可达10-5 mbar量级；机械泵为外部安装式。
7.碳蒸发头：采用直流电源蒸发；标配直径3.05 mm碳棒蒸发头，标配手动碳棒刨；
8.蒸发电流：1-70 A。
9.蒸碳模式：可镀制高质量碳膜，需具有脉冲闪蒸和斜坡碳蒸发两种模式。
10.溅射工作真空范围：7 x 10-3 到1 x 10-1mbar。
11.溅射电流：1-150mA，连续可调，调节步径1 mA。
12.溅射时间：1-3600秒，连续可调，调节步径1秒。
13.靶材：尺寸应为φ57mm，磁控冷溅射环境，精细颗粒镀膜，至少配有金靶2块，铂靶2块，铬靶一块，碳棒至少2包。
14.配有膜厚监控附件，显示分辨率0.1nm，可实时测量镀膜厚度和到达预设厚度时终止镀膜。
15.清洁维护：圆柱形镀膜腔室，能够整体拆卸，并设有防污染装置，可方便清洁和维护。
16.遵循电器安全法规；具有电源功率因素补偿，使电源使用更有效，从而降低运行成。
2.系统需采用触摸屏操控技术，可储存和调用≥900条镀膜程序；以及≥900个镀膜记录。
3.应具有帮助页和维护提醒功能，程序完成后具有音频声音提示。
4.工作腔室：需使用可方便清洁和维护的圆柱形腔室，可整体拆卸，尺寸不小于 150 mm（内径）x 120mm（高），并配备安全防爆装置以及真空防污染挡板。
5.样品台：台面尺寸≥φ50 mm，可10-20 rpm变速旋转，可0-75°倾斜，且工作距离应在38-70 mm可调。
6.真空系统：系统机械泵＋涡轮分子泵（无需冷却水）；系统真空度3分钟内可达10-5 mbar量级；机械泵为外部安装式。
7.碳蒸发头：采用直流电源蒸发；标配直径3.05 mm碳棒蒸发头，标配手动碳棒刨；
8.蒸发电流：1-70 A。
9.蒸碳模式：可镀制高质量碳膜，需具有脉冲闪蒸和斜坡碳蒸发两种模式。
10.溅射工作真空范围：7 x 10-3 到1 x 10-1mbar。
11.溅射电流：1-150mA，连续可调，调节步径1 mA。
12.溅射时间：1-3600秒，连续可调，调节步径1秒。
13.靶材：尺寸应为φ57mm，磁控冷溅射环境，精细颗粒镀膜，至少配有金靶2块，铂靶2块，铬靶一块，碳棒至少2包。
14.配有膜厚监控附件，显示分辨率0.1nm，可实时测量镀膜厚度和到达预设厚度时终止镀膜。
15.清洁维护：圆柱形镀膜腔室，能够整体拆卸，并设有防污染装置，可方便清洁和维护。
16.遵循电器安全法规；具有电源功率因素补偿，使电源使用更有效，从而降低运行成。
主要功能及特色
高真空镀膜仪是指在真空条件下，采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料（或称膜料）并使之气化，粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法。
预约资源
附件下载
公告
同类仪器
